巩义市泰和水处理材料有限公司
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非接触化学复合金刚砂抛光工艺

  • 传统的普通研磨盘化学抛光是在树脂抛光盘上供给化学液,使其与被加工面相互滑动,来去除被加工面上的化学反应生成物。图8-69所示为水上飞滑非接触化学抛光装置,用于抛光GaAs或InP的印制电路板工件。将工件与Φ100mm水晶平板接触,水晶平板边缘呈锥状,它与带轮相连。印制板工件表面可在抛光盘上方约125μm范围内用滚花螺母来调节高度。抛光盘以1200r/min转速回转,将腐蚀液注到研磨盘中心附近,通过液体摩擦力,使水晶平板以1800r/min转速回转,同时由于动压力使水晶平板上浮,抛光盘使工件表面在非接触情况下进行抛光。工作液为甲醇、1,2-亚乙基二醇及溴的混合液,其中的1,2-亚乙基二醇起调节抛光液黏度的作用。工件在氢气中、600℃高温下热腐蚀15min,以10μm/min的切除率进行表面无损伤抛光。在Φ2.5cm印制电路板80%范围内加工平面度为0.3μm。

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